Πέμπτη, 26 Ιανουαρίου 2017

Self-Terminating Confinement Approach for Large-Area Uniform Monolayer Graphene Directly over Si/SiOx by Chemical Vapor Deposition

TOC Graphic

ACS Nano
DOI: 10.1021/acsnano.6b08069
ancac3?d=yIl2AUoC8zA


from #AlexandrosSfakianakis via Alexandros G.Sfakianakis on Inoreader http://ift.tt/2jX4KWR
via IFTTT

Δεν υπάρχουν σχόλια:

Δημοσίευση σχολίου

Δημοφιλείς αναρτήσεις